应用于高性能_高可靠大功率锂电池保护的N+N型MOS

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时间:2024.12.27

应用于高性能_高可靠大功率锂电池保护的N+NMOS

作者: 张启东,西安电子科技大学 集成电路学部 副教授,西安矽源半导体有限公司 总经理

一、简介

设计电路时,MOSFET热计算是必不可少的项目,尤其是对于处理大功率的功率元器件而言,不仅从工作寿命的角度看很重要,从安全性方面看也非常重要。

关于像 TO-220 TO-247 等可带散热器的封装、TO-252 TO-263 等可将背面引脚安装在电路板上的封装,这些可从背面散热的封装,其热阻的术语和定义如下:

TA :周围(环境)温度


TJ :结温

TC :封装背面温度

TT :封装标印面温度

RthJAθJA):结点与周围(环境)间的热阻  

RthJCθJC):结点与封装背面间的热阻

常用封装的热阻如下:

封装类型

       RthJAθJA(/W)

RthJCθJC(/W)

      TO-252

110

2.5

      TO-220

62.5

0.89

      TO-263

62.5

0.96

      TO-247

50

0.44

 

PD=(TJ - TC)/RthJC    (PD为容许的最大功耗)

 

将最大额定值150℃代入TJVDMOS功率器件最高温度,SiC器件最高工作温度为175),将容许损耗值的条件25℃代入TC 封装焊盘温度),将最大值0.44/WTO-247封装)代入RthJC,其中RthJC是在TC25℃条件下的值。该公式更易懂的解释是,TJ的绝对最大额定值和TC的差即芯片自身的发热容许值。在上述条件下,15025125℃,即芯片的容许发热量为125℃以下。发热量 = 热阻×功耗,因此可容许的发热量除以热阻,即可计算出容许的功耗,即容许损耗(TC=25℃,表示散热系统维持MOS焊盘处于此温度值)。在这里有一点需要事先了解:提供的RthJC是带有TC25的条件的。换言之,如果TC不是25,那么RthJC就不是0.44/W。考虑到实际的使用条件,TC通常不会正好是25,因此技术规格书中作为示例给出的RthJC值并不适用于实际使用条件下的热计算。

我们在进行电路设计时,往往可以计算出MOS器件的损耗功率,此时我们如何确定MOS器件此时的状态是否处于安全区域?答案是我们可以用热像仪探测MOS器件的焊盘温度。例如:对于TO252封装的MOS,我们计算得到MOS器件的功率是4W,允许的焊盘温度TC=150 – 4 x 2.5 = 140. 当使用时必须保证MOS外壳的温度低于140,不然就会使结温超过150,可能损坏MOS。因温度升高时,封装热阻会增加,考虑2倍降额时,焊盘温度需要低于120℃。

另一种计算功率损耗的方法是通过RthJA求得,TJRthJA的关系可通过以下公式表示:

TJ=RthJA × P+ TA 

P是电力损耗(功耗)。括号内是芯片的自身发热量,加上环境温度TA即得出TJ值。由于此次使用的是RthJA,请按照已将前面给出的公式中的TC替换为TA来思考。通过该计算,来调整功率损耗PTA,以确保TJ不超过绝对最大额定值150。如果要通过该公式来计算,就需要掌握环境温度、MOSFET的功率损耗以及RthJA值。环境温度和MOSFET功率损耗相对容易掌握。此类封装的RthJA值因安装电路板封装背面的焊盘面积、铜箔厚度、电路板的材质及层数而异。有时可以获得MOSFET在标准的电路板条件下安装时的RthJA值。

同样,对于TO252封装的MOS,在允许的环境温度TA不超过85℃时(可以采用热像仪确定MOS管壳表面温度值),计算的功率损耗P < 150 – 85℃) / 110 = 0.59W。换而言之,当我们粗略计算出功率器件的损耗时,通过封装的RthJA MOS表面的温度(热像仪探测)可以快速计算出MOS器件的结温

伴随着消费类产品对电池容量和充电速度进一步需求,电池保护需要承担更大充放电电流能力,特别是充电电流。同时用户对电子产品充电时的发热同样提出了更高的要求。当前快充应用中,电池的持续充电电流已经高达20A,而且要求手机的温度与环境温度差值越低越好,甚至要求低于1。此时,可计算出充放电MOS的热阻与损耗的乘积小于1℃。当电池保护中充放电管理MOS器件的导通阻抗为2.5mΩ时,P1W,通过计算RthJA需要小于1/W的热阻特性。对于RthJA小于1/W的指标要求,覆盖塑封体材料的封装是无法解决这个问题,而与MOS晶圆紧贴并裸漏的散热片成为封装的首选方案。

 


1 手机电池及电池保护


2 电池保护电路图

 

针对手机快充市场及智能产品对电池快速充电等的需求,基于可生产性及可制造性考虑,西安矽源半导体有限公司(简称:矽源)研发了两款高散热、超低导通电阻的N+NMOS芯片。

 

二、15V,高散热,2.2mΩPLP封装,N+N MOS

OSM002芯片为15V工作电压,最高BV电压可以达到18V,具有2.2mΩ导通阻抗,采用顶部强散热的N+NMOS芯片。

        

 

3 15V N+N MOS外形和内部细节

 

OSM002芯片采用PLP封装工艺,在1.2um背银厚度的基础上增加了65um的铜用于将MOS内部的热量散发出去,同时底部的Source PAD尺寸为1.4mm x 1.6mm,进一步增加了内部MOS的散热能力。

三、12V,高散热,2.2mΩPLP封装,N+N MOS

OSM004芯片为最低工作电压12V,具有2.2mΩ导通阻抗,兼容CSP贴片,采用顶部强散热的N+NMOS芯片。

       

                                             


4 12V N+N MOS外形和内部细节

 

OSM004同样采用PLP封装工艺,在 12um 背银厚度的基础上增加了25um 的铜用于将 MOS 内部的热量散发出去。

 

参考文献:

[1]. MOSFET的热阻和容许损耗:可背面散热的封装。https://techclass.rohm.com.cn/knowledge/si/s-si/03-s-si/8955

[2]. 晶体管的热阻. https://blog.csdn.net/qlexcel/article/details/89739183

[3]. TO252 封装热阻情报, https://fscdn.rohm.com/cn/products/databook/applinote/ic/power/linear_regulator/to252_thermal_resistance_information_an-c.pdf

[4]. IC 的热特性-热阻, 刘先锋 Seasat Liu,秦小虎 Xiaohu Qin 肖昕 Jerry Xiao https://www.ti.com/cn/lit/an/zhca592/zhca592.pdf?ts=1731654418360&ref_url=https%253A%252F%252Fcn.bing.com%252F